¥电议型号:SE 400adv PV更新时间:2023-9-23 产品目录
激光椭偏仪se 400adv pv se 400adv pv是全球化使用的标准仪器,用于测量pv单层防反射涂层的厚度和折射率指数。特别用于表征单晶和多晶硅太阳能电池上的sinx 防反射单层膜的性能。该仪器用于sinx涂层和薄钝化层sio2和al2o3的质量控制。
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¥电议型号:PSD200更新时间:2023-9-14 产品目录
三维扫描仪又名光学抄数机,它采用光电投射单元将结构光面光投射在物体表面,结合计算机视觉技术、光电传感技术、图象处理技术、以及软件控制等实现对物体面形一次性快速测量,采用旋转物体或者扫描头,变换扫描视角,基于多视角点云标记点的自动拼接技术,可完成物体全方位360度扫描.
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¥电议型号:PHE更新时间:2023-8-30 产品目录
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¥电议型号:SEMILAB-全光谱椭偏仪GES5E更新时间:2023-1-3 产品目录
semilab拥有全球zui优秀的电学和光学表征技术,产品被广泛应用于光伏、半导体、科研以及平板测试领域。凭借先进的测试设备,为客户的生产和质量监控提供一套完整的测试方案,在行业中始终处于领xian地位。
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¥电议型号:ME-L更新时间:2023-8-23 产品目录
产品简介:me-l是一款科研级全自动高精度穆勒矩阵型椭偏仪,凝聚了科研团队在椭偏技术多年的投入,其采用行业前沿的创新技术,包括消色差补偿器、双旋转补偿器同步控制、穆勒矩阵数据分析等。可应用于半导体薄膜结构,半导体周期性纳米结构,新材料,新物理现象研究,平板显示,光伏太阳能,功能性涂料,生物和化学工程,块状材料分析以及各种各向同性/异性薄膜材料膜厚、光学纳米光栅常数以及一维/二维纳米光栅材料结构的表征分析。双旋转补偿器(drc)配置一次测量全部穆勒矩阵16个元素;配置自动变角器、五维样件控制平台等优质硬件模块,软件交互式界面配合辅助向导式设计,易上手、操作便捷;丰富的数据库和几何结构模型库,保证强大数据分析能力。
第 0 年¥电议型号:ME-210(-T)更新时间:2023-1-3 产品目录
日本photonic lattic 通过以自研的偏振传感器为核心的新一代全检膜厚mapping椭偏仪,可以做到1000点/分钟,6寸产品快可以在3分钟内完成,不仅如此,me-210-t针对透明基板也可测量。
第 0 年¥电议型号:G8390-25更新时间:2022-5-1 产品目录
solarbio 偏钒酸钠 常用盐别名:钒酸钠;sodium vanadate(v)。分子式:navo3分子量:121.93cas#:13718-26-8外观:白色结晶或浅黄色结晶性粉末特性:溶解性:
第 0 年¥12600.00型号:3322099更新时间:2020-9-27 产品目录
jnd2.0qq群3322099-接待3008574353椭偏仪 jnd2.0qq群3322099-接待3008574353椭偏仪 jnd2.0qq群3322099-接待3008574353椭偏仪
第 0 年¥13580.00型号:3322099更新时间:2020-9-17 产品目录
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第 0 年¥400.00型号:更新时间:2020-7-5 产品目录
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第 0 年¥电议型号:SpecEL-2000更新时间:2020-6-15 产品目录
specel-2000是一款操作便捷的台式光谱椭偏仪,主要用于测量平整和半透明的样品,例如硅晶圆片和玻璃片等薄膜。 椭圆偏光技术是一种非接触式、非破坏性,以光学技术测量表面薄膜特性的方法。其检测原理是:当一束偏振光经过物体表面或界面时,其偏振极化状态会被改变。而椭偏仪就是通过探测样品表面的反射光,来测量此改变(即反射光和入射光的振幅及相位的改变量),以决定表面特性薄膜的光学常数(n、k值)及膜厚。 specel-2000测试系统主要包括:宽带光源、高性能线阵ccd光谱仪、导光器件、起偏器、样品测试台、检偏器、光学增强元件及测量分析软件。 specel-2000适合于探测薄膜厚度、光学常数以及材料微结构特性,通常应用于有薄膜存在的地方,其应用
第 0 年¥电议型号:SE1000更新时间:2020-6-3 产品目录
se-1000型椭偏仪采用手动变角装置来设定测试的入射角,样品台也采用手动方式,在测试的准确性和灵活性与se-2000保持一致的情况下,为客户提供了一款极具竞争力的椭偏测试设备。另一方面,se-1000型全光谱椭偏仪采用了最新设计的光学部件以及最新版本的测试分析软件(sam/sea),极大地提高了设备的运行稳定性和数据处理能力。
第 0 年¥电议型号:UVISEL更新时间:2020-5-26 产品目录
器简介: 20多年技术积累和发展的结晶,是一款高准确性、高灵敏度、高稳定性的经典椭偏机型。即使在透明的基底上也能对超薄膜进行最精确的测量。采用pem相位调制技术,与机械旋转部件技术相比,能提供更好的稳定性和信噪比。
第 0 年¥电议型号:ME-210/110更新时间:2020-5-21 产品目录
这种光子晶体探测器型的椭偏仪是有日本photonic lattice公司首创,并应用到椭偏仪的测试中。日本photonic lattice公司在光子晶体的研究和制造领域领先世界,由此开发出的光子晶体探测器型椭偏仪具有测试速度快、测量准确、免维护、价格低廉等特点已经在光学薄膜、半导体薄膜、有机薄膜等领域有着广泛的应用。该椭偏仪可快速准确测量薄膜的厚度和折射率的分布。
第 0 年¥电议型号:EM12-PV更新时间:2020-5-18 产品目录
em12-pv用于测量绒面单晶硅或多晶硅太阳电池表面减反膜的厚度以及在632.8nm下的折射率n。也可测量光滑平面材料上的单层或多层纳米薄膜的膜层厚度,以及在632.8nm下折射率n和消光系数k。
第 0 年¥666.00型号:GEL 2432T-1BC600更新时间:2019-3-28 产品目录
穗铖(厦门)科技有限公司设立于厦门经济特区,专注于为客户提供德国及欧美地区原产的各类工控机电设备、仪器仪表、零配件。确保100%原厂全新正品。产品覆盖:工业设备、仪器仪表、过程控制、电机传动、低压电器、液压、工具、传感器、控制类产品的企业,产品应用广泛。
第 0 年¥电议型号:更新时间:2018-7-26 产品目录
fft-在應用分析上,可除了橢圓儀原本的回歸分析,還增加了傅利葉的分析方式,可針對不同的材料與厚度使用,user使用上更為便利與快速.
第 0 年¥电议型号:EMPro更新时间:2012-12-11 产品目录
empro是针对高端研发和质量控制领域推出的极致型多入射角激光椭偏仪。empro可在单入射角度或多入射角度下进行高精度、高准确性测量。可用于测量单层或多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率n和消光系数k;也可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k;亦可用于实时测量快速变化的纳米薄膜动态生长中膜层的厚度、折射率n和消光系数k。多入射角度设计实现了纳米薄膜的绝对厚度测量
第 0 年¥电议型号:EP3更新时间:2012-3-8 产品目录
德国nanofilm公司于1991年开发出了世界上台brewster角显微镜(bam)。近几年来,nanofilm又相继推出了不同用途的bam产品以及相应的配套仪器。
第 0 年¥电议型号:EP3更新时间:2012-3-8 产品目录
德国nanofilm公司于1991年开发出了世界上台brewster角显微镜(bam)。近几年来,nanofilm又相继推出了不同用途的bam产品以及相应的配套仪器。
第 0 年¥电议型号:SpecEl椭偏仪更新时间:2011-12-20 产品目录
specel-2000-vis椭偏仪通过测量基底反射的偏振光,进而测量薄膜厚度及材料不同波长处的折射率。specel通过pc控制来实现折射率,吸光率及膜厚的测量。 集成的精确测量系统specel由一个集成的光源,一个光谱仪及两个成70°的偏光器构成,并配有一个32位操作系统的pc.该椭偏仪可测量0.1nm-5um厚的单膜,并且折射率测量可达0.005%。specel可通过电话问价。 specel软件及recipe配置文件通过specei软件,你可以配置及存贮实验设计方法实现一键分析,所有的配置会被存入recipe文件中。创建recipe后,你可以选择不同的recipe来执行你的实验。
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