椭偏仪产品及厂家
德国 sentech 低成本高效益的光谱椭偏仪senpro,senpro椭偏仪是椭偏仪应用的智能解决方案。它具有角度计，入射角度步进值5°。操作简单，快速测量和直观的数据分析相结合，以低成本效益高的设计来测量单层和多层膜的厚度和光学常数。
更新时间:2024-05-09
senduro 全自动光谱椭偏仪,包括基于测量处方的仅在几秒钟内即可完成的快速数据分析。椭圆仪的设计是为了便于操作：放置样品，自动样品对准，自动测量和分析结果。在全自动模式下使用光谱椭偏仪非常适合于质量控制和研发中的常规应用。
更新时间:2024-05-09
nano-master 离子束刻蚀溅射镀膜一体机 nsenresearch 4.0:拥有宽光谱范围的光谱椭偏仪
更新时间:2024-05-09
sendira红外光谱椭偏仪,振动光谱的特点是傅立叶红外光谱仪ftir。测量红外分子振动模的吸收谱带，分析长分子链的走向和薄膜的组成。红外光谱椭偏仪适用于测量导电膜的电荷载流子浓度。
更新时间:2024-05-09
spectraray/4:光谱椭偏测量/分析软件，senduro®全自动光谱椭偏仪包括基于测量处方的仅在几秒钟内即可完成的快速数据分析。椭圆仪的设计是为了便于操作：放置样品，自动样品对准，自动测量和分析结果。在全自动模式下使用光谱椭偏仪非常适合于质量控制和研发中的常规应用。
更新时间:2024-05-09
激光椭偏仪 se 400adv，激光椭偏仪se 400adv测量透明薄膜的厚度和折射率指数，具有测量速度、亚埃级别的厚度精度和折射率测定的精度。多角度测量允许使用激光椭偏仪se 400adv表征吸收膜特征。
更新时间:2024-05-09
se 800 pv 激光椭偏仪 sentech设计了se 800 pv，用于表征由sinx/sio2、sinx/siny或sinx/al2o3组成的多层钝化膜和防反射涂层。分析了单晶和多晶硅太阳电池的折射率指数、吸收和膜厚。在配方模式下进行复杂的测量，速度快，操作容易。
更新时间:2024-05-09
激光椭偏仪se 400adv pv se 400adv pv是全球化使用的标准仪器，用于测量pv单层防反射涂层的厚度和折射率指数。特别用于表征单晶和多晶硅太阳能电池上的sinx 防反射单层膜的性能。该仪器用于sinx涂层和薄钝化层sio2和al2o3的质量控制。
更新时间:2024-05-09
多功能性设计，配置灵活，具备多角度测量能力，可方便实现在线与离线配置切换。是一款针对单层和多层薄膜进行简单，快速，精确表征和分析的工具。
更新时间:2024-04-02
一键式全自动快速椭偏仪 auto se——新型的全自动薄膜测量分析工具。采用工业化设计，操作简单，可在几钟内完成全自动测量和分析，并输出分析报告。是用于快速薄膜测量和器件质量控制理想的解决方案。
更新时间:2024-04-02
semilab拥有全球zui优秀的电学和光学表征技术，产品被广泛应用于光伏、半导体、科研以及平板测试领域。凭借先进的测试设备，为客户的生产和质量监控提供一套完整的测试方案，在行业中始终处于领xian地位。
更新时间:2024-03-01
se2000全光谱椭偏测试平台基于椭圆偏振测试技术，采用先进的旋转补偿器，结合光纤li技术将偏振光信号传输至分段光谱优化的高分辨率单色仪或阵列式多通道摄谱仪，测得线偏振光经过样品反射后的偏振态变化情况，并通过样品光学模型的建立，计算出单层或多层薄膜结构的厚度、折射率和消光系数，实现精确、快速、稳定的宽光谱椭偏测试。
更新时间:2024-03-01
三维扫描仪又名光学抄数机，它采用光电投射单元将结构光面光投射在物体表面,结合计算机视觉技术、光电传感技术、图象处理技术、以及软件控制等实现对物体面形一次性快速测量,采用旋转物体或者扫描头,变换扫描视角,基于多视角点云标记点的自动拼接技术,可完成物体全方位360度扫描.
更新时间:2023-12-12
偏钨酸铵水合物英文名称：ammonium metatungstate hydratecas：12333-11-8单位：瓶货期：2-3天偏钨酸铵水合物100g 560
更新时间:2023-10-12
产品简介：se-pv光伏椭偏仪是一款光伏行业领域专用型光谱椭偏仪，针对光伏行业绒面单晶硅或多晶硅太阳能电池表面减反膜测量定制开发，快速实现薄膜物性表征分析。光伏椭偏仪广泛应用于光伏绒面单晶硅或多晶硅表面减反膜椭偏测量应用,实现单层到多层薄膜的薄膜、光学常数和几何特征尺寸快速的表征分析。
更新时间:2023-08-23
产品简介：光谱椭偏仪se-glass 是一款针对玻璃盖板行业定制的专用型光谱椭偏仪，针对玻璃盖板光学镀膜行业通过集成微光斑+可视化调平系统仪消除透明基底背反测量定制开发，快速实现玻璃盖板上多层薄膜物性表征分析。光谱椭偏仪se-glass 广泛应用于玻璃基底山减反膜、调光膜、导电膜等薄膜的膜厚，光学常数测量，完美适用于玻璃盖板、光学薄膜等镀膜检测应用。
更新时间:2023-08-23
产品简介：全自动椭偏检测机台作为一种小型椭偏集成机台，通过整体高度模块化，电、气路集成技术，实现不同椭偏测量模块在线/离线式整体椭偏测量解决方案。全自动椭偏检测机台广泛应用于科学研究中各种各向同性，异性薄膜材料的膜厚、光学常数以及一维、二维纳米光栅的结构表征；工业领域新型光电器件行业所涉及的薄膜（配向膜、光刻胶、ito、发光薄膜、封装薄膜）全片离线化快速扫描测量。
更新时间:2023-08-23
产品简介：se-mapping光谱椭偏仪是一款可定制化mapping绘制化测量光谱椭偏仪，采用行业前沿创新技术，配置全自动mapping测量模块，通过椭偏参数、 透射/反射率等参数的测量，快速实现薄膜全基片膜厚以及光学参数自定义绘制化测量表征分析。se-mapping光谱椭偏仪广泛应用oled，led，光伏，集成电路等工业应用中,实现大尺寸全基片膜厚、光学常数以及膜厚分布快速测量与表征。
更新时间:2023-08-23
产品简介：se-l光谱椭偏仪是一款全自动高精度光谱椭偏仪，集众多科技专利技术，采用行业前沿创新技术，配置全自动测量模块。通过椭偏参数、 透射/反射率等参数的测量，快速实现光学参数薄膜和纳米结构的表征分析。se-l光谱椭偏仪广泛应用于半导体薄膜结构：介电薄膜、金属薄膜、高分子、光刻胶、硅、pzt膜，激光二极管gan和algan、透明的电子器件、平板显示、光伏太阳能、功能性涂料、生物和化学工程、块状材料分析等领域。
更新时间:2023-08-23
产品简介：me-l是一款科研级全自动高精度穆勒矩阵型椭偏仪，凝聚了科研团队在椭偏技术多年的投入，其采用行业前沿的创新技术，包括消色差补偿器、双旋转补偿器同步控制、穆勒矩阵数据分析等。可应用于半导体薄膜结构，半导体周期性纳米结构，新材料，新物理现象研究，平板显示，光伏太阳能，功能性涂料，生物和化学工程，块状材料分析以及各种各向同性/异性薄膜材料膜厚、光学纳米光栅常数以及一维/二维纳米光栅材料结构的表征分析。双旋转补偿器(drc)配置一次测量全部穆勒矩阵16个元素；配置自动变角器、五维样件控制平台等优质硬件模块，软件交互式界面配合辅助向导式设计，易上手、操作便捷；丰富的数据库和几何结构模型库，保证强大数据分析能力。
更新时间:2023-08-23
产品简介：se-vm 是一款高精度快速测量光谱椭偏仪。可通过椭偏参数、 透射/反射率等参数的测量，快速实现光学参数薄膜和纳米结构的表征分析，适用于薄膜材料的快速测量表征。支持多角度，微光斑，可视化调平系统等高兼容性灵活配置，多功能模块定制化设计。
更新时间:2023-08-23
产品简介：se-ve 是一款超高性价比、快速测量光谱椭偏仪，紧凑集成设计，使用简便，可一键快速测量表征各式光学薄膜膜厚以及光学常数等信息。高性价比光学椭偏测量解决方案，紧凑集成化设计，极致用户操作体验，一键快速测量分析，人机交互设计，使用便捷，丰富的数据库和几何结构模型库，保证强大数据分析能力，广
更新时间:2023-08-23
日本photonic lattic 通过以自研的偏振传感器为核心的新一代全检膜厚mapping椭偏仪，可以做到1000点/分钟，6寸产品快可以在3分钟内完成，不仅如此，me-210-t针对透明基板也可测量。
更新时间:2023-01-03
solarbio 偏钒酸钠 常用盐别名：钒酸钠；sodium vanadate(v)。分子式：navo3分子量：121.93cas＃：13718-26-8外观：白色结晶或浅黄色结晶性粉末特性：溶解性：
更新时间:2022-05-01
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更新时间:2020-09-27
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更新时间:2020-09-17
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更新时间:2020-07-05
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更新时间:2020-07-05
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更新时间:2020-07-05
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更新时间:2020-07-01
specel-2000是一款操作便捷的台式光谱椭偏仪，主要用于测量平整和半透明的样品，例如硅晶圆片和玻璃片等薄膜。 椭圆偏光技术是一种非接触式、非破坏性，以光学技术测量表面薄膜特性的方法。其检测原理是：当一束偏振光经过物体表面或界面时，其偏振极化状态会被改变。而椭偏仪就是通过探测样品表面的反射光，来测量此改变（即反射光和入射光的振幅及相位的改变量），以决定表面特性薄膜的光学常数（n、k值）及膜厚。 specel-2000测试系统主要包括：宽带光源、高性能线阵ccd光谱仪、导光器件、起偏器、样品测试台、检偏器、光学增强元件及测量分析软件。 specel-2000适合于探测薄膜厚度、光学常数以及材料微结构特性，通常应用于有薄膜存在的地方，其应用
更新时间:2020-06-15
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更新时间:2020-06-05
器简介： 20多年技术积累和发展的结晶,是一款高准确性、高灵敏度、高稳定性的经典椭偏机型。即使在透明的基底上也能对超薄膜进行最精确的测量。采用pem相位调制技术，与机械旋转部件技术相比,能提供更好的稳定性和信噪比。
更新时间:2020-05-26
新型的全自动薄膜测量分析工具，工业化设计，操作简单，可在几秒钟内完成全自动测量和分析，并输出分析报告。是用于快速薄膜测量和器件质量控制理想的解决方案。
更新时间:2020-05-26
20多年技术积累和发展的结晶,uvisel是一款高准确性、高灵敏度、高稳定性的经典椭偏机型。即使在透明的基底上也能对超薄膜进行最精确的测量。采用pem相位调制技术，与机械旋转部件技术相比,能提供更好的稳定性和信噪比
更新时间:2020-05-26
智能型多功能椭偏仪smart se采用多功能性设计，配置灵活，具备多角度测量能力，可方便实现在线与离线配置切换。是一款针对单层和多层薄膜进行简单，快速，精确表征和分析的工具。
更新时间:2020-05-26
镀膜或刻蚀的过程中，实时监测样品膜的膜厚以及光学常数（n,k）变化。产品特点：将激发和探测头引入生产设备，可实现：· 动态模式:实时监测膜厚变化· 光谱模式：监测薄膜的界面和组分技术参数：
更新时间:2020-05-26
这种光子晶体探测器型的椭偏仪是有日本photonic lattice公司首创，并应用到椭偏仪的测试中。日本photonic lattice公司在光子晶体的研究和制造领域领先世界，由此开发出的光子晶体探测器型椭偏仪具有测试速度快、测量准确、免维护、价格低廉等特点已经在光学薄膜、半导体薄膜、有机薄膜等领域有着广泛的应用。该椭偏仪可快速准确测量薄膜的厚度和折射率的分布。
更新时间:2020-05-21
em12-pv用于测量绒面单晶硅或多晶硅太阳电池表面减反膜的厚度以及在632.8nm下的折射率n。也可测量光滑平面材料上的单层或多层纳米薄膜的膜层厚度，以及在632.8nm下折射率n和消光系数k。
更新时间:2020-05-18
es03多入射角光谱椭偏仪用于测量单层和多层纳米薄膜的层构参数（如，厚度）和物理参数（如，折射率n、消光系数k），也可用于测量块状材料的折射率n和消光系数k。 es03系列适合于对样品进行实时和非实时的检测。
更新时间:2020-05-18
ess01是针对科研和工业环境中薄膜测量推出的波长扫描式、高精度自动变入射角度光谱椭偏仪，此系列仪器波长范围覆盖紫外、可见、近红外到远红外。
更新时间:2020-05-18
empro-pv用于测量绒面单晶硅或多晶硅太阳电池表面减反膜镀层的厚度以及在632.8nm下的折射率n。也可测量光滑平面材料上的单层或多层纳米薄膜的膜层厚度，以及在632.8nm下折射率n和消光系数k。empro-pv融合多项量拓科技专利技术，采用一体化样品台技术，兼容测量单晶和多晶太阳电池样品，并实现二者的轻松转换。一键式多线程操作软件，使得仪器操作简单安全。
更新时间:2020-05-18
es01-pv是针对光伏太阳能电池研发和质量控制领域推出的高性能光谱椭偏仪。es01-pv用于测量和分析光伏领域中多层纳米薄膜的层构参数（如，厚度）和物理参数（如，折射率n、消光系数k），典型样品包括：绒面单晶和多晶太阳电池上的单层减反膜（如sinx，sio2，tio2，al2o3等）和多层减反膜（如，sinx/sio2, sinx2/sinx1, sinx /al2o3 等），以及薄膜太阳电池中的多层纳米薄膜。
更新时间:2020-05-18
em13ld 系列是采用先进的测量技术，针对普通精度需求的研发和质量控制领域推出的多入射角激光椭偏仪。 em13ld系列采用半导体激光器作为光源，可在单入射角度或多入射角度下对样品进行准确测量。可用于测量单层或多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率n和消光系数k；也可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k；亦可用于实时测量纳米薄膜动态生长中膜层的厚度、折射率n和消光系数k。多入射角度设计实现了纳米薄膜的绝对厚度测量
更新时间:2020-05-18
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