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Pfeiffer 分子泵组应用于脉冲激光沉积系统
点击次数：604 发布时间：2013/1/23 10:09:03
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叶**
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Pfeiffer 分子泵组应用于脉冲激光沉积系统
脉冲激光沉积（Pulsed Laser Deposition, PLD），是一种利用激光对物体进行轰击，然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上, 得到沉淀或者薄膜的一种手段. PLD 系统由多个真空腔体组成，整个系统需要超高真空且不能引入任何杂质，对环境的清洁度要求较高，必须配备无油干泵和
原创作者：伯东企业（上海）有限公司
