半导体烘箱,N2半 导体烤箱是一种提供高温净化环境的特殊洁净烘干设备。烘箱整机为不锈钢结构,全部采用无尘材料。工作室内温度由温控仪自动控制,并有自动恒温及时间控制装置,并附设有超温自动停电及报警电路,控制可靠,使用安全。
半导体烘箱,N2半 导体烤箱特点及用途:
1、全周氩焊,耐高温硅胶迫紧,SUS304#不锈钢电热产生器,防机台本身产生微尘;
2、耐高温,可以达到和工作场同样的洁净等级
3、洁净烘箱适用于电子液晶显示、LCD、CMOS、IC、IC封装、医药、实验室等生产及科研部门。也可用于非挥发性及非易燃易爆物品的干燥、热处理、老化等其它高温试验。
半导体烘箱,N2半 导体烤箱技术数据:
1、名称:洁净烘箱
2、主要技术指标:
2.1温度范围: RT(室温)+10~300℃;
2.2温度偏差:≤±2.0℃;
2.3升温速度:≥2℃/min;
2.4洁净等级:千级以上;
2.5工作尺寸:W600×H550×D600mm,可非标定做;
2.6电源:AC380V 50HZ 4.5KW ;
3、箱体结构:
3.1箱体材料:外箱采用优质冷轧板烤漆;
3.2内室材料:采用SUS304#无磁性镜面不锈钢;
3.3保温材料:超细玻璃棉;
3.4排 气 口:ф50;
3.5 隔 板:2层,不锈钢冲孔;
3.6空气循环装置:大容量轴流电机;
3.7加热方式:不锈钢电加热器;
半导体光刻烤箱,晶圆涂胶烤箱、光刻涂胶用烘箱性能介绍:
半导体光刻烤箱,晶圆涂胶烤箱、光刻涂胶用烘箱是一种提供高温净化环境的特殊洁净烘干设备。箱内空气封闭自循环。经耐高温高效空气过滤器过滤,使烘箱工作室内处于无尘状态。洁净烘箱工作室为光亮型全不锈钢结构。工作室内温度采用智能式数显温度控制仪进行自动控制P.I.D调节,数显时间控制,并设有断路及超温报警,操作方便,使用安全。
半导体光刻烤箱,晶圆涂胶烤箱、光刻涂胶用烘箱
可满足电子电器、医药、实验室等生产及科研部门中净化干燥。特殊要求温度可达350℃-400℃并且可加装氮气进出口。
半导体光刻烤箱,晶圆涂胶烤箱、光刻涂胶用烘箱技术参数:
1.内部尺寸:600*500*750(mm) (内尺寸可选择)
2.内箱分层:三层
3. 温度范围:RT+10℃~300℃。
4.温度波动:<±1℃。
5.温度均匀:±2%(空载测试)。
依测规范:测SENSOR置放点,离内箱壁内尺寸1/10处。
6.温控装置:高精度P.I.D智能温控仪表, LED数字显示及设定、P.I.D自动演算、时间定时。
温控输出:SSR输出,品牌继电器,固态继电器。
测温装置:1支PT100 铂 电阻温度传感装置,测温精确。
气体控制装置:高效过滤气体中微粒。
7.内室材料:采用无磁性镜面不锈钢;外箱采用 SS41# 中碳钢板经磷酸皮膜盐处理后两层防光面涂装烤漆,可防止微尘(PARTICLE) 。
8.保温材质:硅酸铝。
9.特质复合式SUS304#不锈钢电热产生器。
保护装置:超温保护器,无熔丝开关。
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