鹏城半导体邀您共赴2026湾区半导体产业生态博览会

作为立足粤港澳大湾区、面向全球的半导体产业盛会，湾区半导体产业生态博览会（简称“湾芯展” WESEMiBAY）将于2026年10月14-16日在深圳会展中心（福田）重磅启幕。鹏城半导体技术（深圳）有限公司（简称“鹏城半导体”）将携大尺寸金刚石薄膜制备设备、氮化镓（GaN）单晶薄膜生长设备等核心设备亮相5号馆5G07展位。

展会概况

湾芯展以“芯启未来，智创生态”为主题，聚焦半导体全产业链协同发展，汇聚800+全球优质半导体企业，覆盖半导体晶圆制造装备、零部件、材料、xian*jin*封装、IC设计、第三代半导体等重点领域，搭配40+场技术论坛，搭建起集技术交流、供需对接、产业赋能于一体的产业生态平台。

部分核心设备展示

超高真空高能脉冲磁控溅射镀膜设备（HITSemi-UHV-HIPIMS）

在超洁净环境下，采用纳米及原子级制造技术，生长高纯度高质量薄膜。应用场景之一：GaN单晶薄膜生长工艺、GaN基稀磁半导体分子结构材料制备的工艺实现。

该设备由工艺室、预处理室、手套箱、传送样机构、真空制备系统、电气控制系统、Rheed等测量检测系统组成。可在洁净环境下完成样片的清洗、外延片及稀磁半导体膜层制备及膜层后期处理、防护包装等流程。

主要特点

在超高真空和超洁净环境下，实现等离子体溅射外延过程。

集成原子级别探测的电子束测试手段，实现超高真空PSD外延原子级别物理性能研究（包括原子级别缺陷形成规律、动力学规律等）。

从原子尺度精确控制第三代半导体（本项目以GaN薄膜做验证）等离子体溅射外延生长过程。

生产型TGV/TSV/TMV高真空磁控溅射镀膜机

该设备用于玻璃基板和陶瓷基板的高密度通孔和盲孔的金属种子层镀膜，深径比>10:1。例如：用于基板镀膜工序Cu/Ti微结构，Au/TiW传输导线双体系膜层淀积能力，为微系统集成密度提升提供支撑。

本设备优点：膜层均匀性及重复性高，膜层附着力强，设备依据工艺配方进行可编程自动化控制。

生产型高真空磁控溅射/离子辅助/多弧复合镀膜机

该设备广泛应用于铣刀、钻头、轴承、齿轮、镜片等表面的硬质耐磨涂层制备，集成了工件表面处理、离子清洗、颗粒物控制、磁控溅射、离子辅助镀膜及反应溅射镀膜等工艺方法于一体的PVD设备。可以制备单层膜、多层膜、掺杂膜、金属膜及合金膜、化合物薄膜等。

HFCVD 热丝化学气相沉积设备

设备主要用于微米晶和纳米晶金刚石薄膜的研发和生产。可用于力学级别、热学级别、光学级别、声学级别的金刚石产品的研发生产。可以制造大尺寸金刚石多晶晶圆片，用于大功率器件、高频器件及大功率激光器的散热热沉。可用于生产制造防腐耐磨硬质涂层；环保领域污水处理用的金刚石产品。可用于平面工件的金刚石薄膜制备，也可用于刀具表面或其它不规则表面的金刚石硬质涂层制备。可用于太阳能薄膜电池的研发与生产。

科研型高真空磁控溅射镀膜机

该设备是科研类及中试类高真空磁控溅射镀膜机，主要用2～12英寸圆形平面磁控溅射靶和小型矩形靶进行溅射镀膜。可制备金属、合金、化合物、半导体、陶瓷、介质复合膜及其它化学反应膜等；适用于镀制各种单层膜、多层膜、掺杂膜及合金膜；可镀制磁性材料和非磁性材料。可用于TGV/TSV/TMV xian*jin*封装的研发，高深径比（≥10:1）的深孔金属种子层镀膜。

高真空电子束蒸发镀膜机

在高真空条件下，采用电子束轰击材料加热蒸发的方法，在衬底上镀制各种金属、氧化物、导电薄膜、光学薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬膜等；可镀制混合物单层膜、多层膜或掺杂膜；可镀各种高熔点材料。设备具有真空度高、抽速快、基片装卸方便的特点，配备E 型电子束蒸发源和电阻蒸发源。PID自动控温，具有成膜均匀、放气量小和温度均匀的优点。

展会观展指南

展会时间：2026年10月14日—10月16日

展会地点：深圳会展中心（福田）

展位号：5号馆5G07

鹏城半导体诚邀海内外行业同仁、合作伙伴莅临展位，面对面深度交流，共探国产半导体新机遇，共筑产业发展新生态！

原创作者：鹏城半导体技术（深圳）有限公司