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MC1000 Hitachi离子溅射
点击次数：48发布时间：2021/7/13
更新日期：2021/8/8 14:37:39
生 产 地：
产品型号：MC1000
详细内容
日立离子溅射仪 MC1000 | ||
| 采用磁控型电极使样品损伤*小化 | ||
LCD触摸屏设 | 记忆功能存 | 适用复杂样品 |
特点
● Hitachi离子溅射采用LCD触摸屏，可以更加简便地设定加工条件 ● 可处理较厚或较大的样品(选配件) ● Hitachi离子溅射记忆功能可存储常用加工条件 | |
技术规格 | |
| 项目 | 描述 | |
放电 | 类型 | 磁控二极管放电型(电场垂直于磁场) |
电极组成 | 反向平行盘(嵌入磁铁) | |
电压 | 0.4 kV DC(直流可变) | |
电流 | 40 mA DC | |
喷镀速率 *1() | Pt 靶(选配件) | 15 nm/min |
Pt-Pd 靶(选配件) | 20 nm/min | |
Au 靶(选配件) | 35 nm/min | |
Au-Pd 靶(选配件) | 25 nm/min | |
样品尺寸 | 直径 | φ60 mm |
高度 | 20 mm | |
机械泵 | 135/162 l/min (50/60Hz) | |
靶材*2 | Pt , Pt-Pd (8:2) , Au , Au-Pd (6:4) | |
电源要求 | 单相, 100 V AC (±10%) 15 A (50/60 Hz), 3-针插头线缆(3 m) | |
尺寸 | 宽度 | 450 mm |
长度 | 391 mm | |
高度 | 390 mm | |
重量 | 主机：约 25 kg | |
*1： 喷镀速率仅供参考 *2： 主机内不包括靶材。请从选项中选择(铂，铂-钯，金，金-钯)。 |
选配附件 |
| 项目 | 描述 |
膜厚/温度控制单元*1 | 镀层厚度控制范围：1nm 至 30nm |
蒸镀单元 | 蒸镀碳（铅笔芯） |
大样品仓*2 | 直径：φ150mm 高度：20mm |
变压器 | 适用电压：115，200,208,220,230,240V |
| *1﹠*2.需要同主机同时配置，*1不需要大样品仓 |
安装要求 |
| 项目 | 描述 |
室温 | 15 ~ 30℃ |
相对湿度 | ≤85% |
主机功率 | AC 100V (±10%) ，50/60Hz，1.25kVA |
接地地阻 | ≤100Ω |
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